反应离子刻蚀机
SAMCO RIE-10NR
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简介： RIE-10NR是一种新型的低成本、
高性能、全自动反应离子刻蚀系统，
能够满足非腐蚀性气体化学最苛刻
的工艺要求。
计算机化触摸屏为工艺配方编
程和存储提供了用户友好的界面。
该系统可以实现精确的侧壁轮
廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。
凭借其圆滑、紧凑的设计，
RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。
应用:
硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、
砷化镓、钼、铂、聚酰亚胺等材料的
腐蚀失效分析中的选择性层腐蚀。
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主要功能和优点：
1、加工至ø220 mm（ø3“x 5，ø4”x 3，ø8”x 1）。
2、高选择性各向异性蚀刻满足严格的工艺要求全自动“一键式”操作。
3、自动压力控制，允许独立于气流干泵和系统布局的过程压力精确控制，便于维护。
4、于Windows的用户界面，丰富的配方和内置的数据记录功能，是一个可靠和持久的系统，全球安装了400多个系统。
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主要参数规格：
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基板
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220 mm（ø3“x 5，ø4”x 3，ø8”x 1）
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负载
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开放式
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上下电极
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ø240 mm
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射频功率
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300瓦@13.56兆赫，自动匹配（500瓦为选项）
可切换射频供电电极（阳极/阴极模式）为选项
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气体管道
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内部2条MFC控制的气体管道（最多6条）
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泵
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干泵（500升/分钟）
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操作系统
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触摸屏操作（可选择基于Windows的用户界面）、配方管理
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端点检测
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光学发射光谱（OES）作为一种选择
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尺寸
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500 mm（宽）x 920 mm（深）x 1501 mm（高）
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